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  | | 5. 10,2025



溅镀靶材 Sputter target

冠纬提供您各式之靶材(targets),锭材(slug), 

 

贵金属(precious metal) 材料方面有   

 Pt,Ir, Ru, Rh, Au, Pa, Ag… 

 

一般金属(metal) 材料方面有 

 产品名称 :  Cu, Al, Ni, Ti, W, Zn, In, Sn, V, Zr, Cr, Co, Y, Nb, Si, Ta, Xi, Mo, Fe, Pb, Bi, In, 

 

氧化物(oxide)材料方面有 

 Ta2O5,Nb2O5, Hf2O5,SiO2,TiO2, ZrO2, Al2O3,…. 

 

复合氧化物(composite oxide) 材料方面有

 SrTiO3, SrRuO3, PbTiO3, SrBi2Ta2O9(Ba Sr), TiO3, LiNbO3, Pb(Zr,Ti)O3, SrBi2(Ta,Nb)2O9…

 

其它合金(alloy)材料有 

 ZnS-SiO2, TbFeCo, TbFeCoCr, AgInSbTe, GeSbTe, TiC, ZnO, Al-1%Si,Al-2%Nd, Ni-20%Cr, Si3N4, Wc, MoS2, Au-20%Sn, NiCr, NiCu, AlCu, ITO, ZnS, ZnO…

 

电极材料用靶材( Electrode materials ) 

 Au , Pd , Pt , Ir , Ru , SRO , LSCO , ABCO , BSCCO … 

 

强电及电介质用靶材( Ferroelectric & Dielectric materiale ) 

 STO , PTO , BTO , BST , BiWO , BiVO , Ta2O5 , PZT , SBT , SbiN , LNO , LTO 

 

磁性溅镀靶材( Magnetic Sputtering targets ) 

 NiFe + , CoCr + , CoPt + , P-TM alloy , Oxide , Compund Oxide 

 

高反射率溅镀靶材(Ag alloy targets) 

 可用于光盘反射膜, CD-RW , DVD , CD-R , LCD反射膜, LCD电极, 半导体电极, 有低阻抗,

高反射率,加工性良好,高耐候性,低扩散性等优点。

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