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APCVD-N2 SHIELD

N2-Shield 应用于半导体大气压化学汽相沉积设备制程中，本公司的N2-Shield采一体成型，无螺丝设计，增加使用寿命，延后定期保养的时程，提高产能利用率。N2 Shield的网面部分采特殊的加工法制成，每一网洞的大小及形状均一，使得我们的装置在均匀度及沉积率方面的表现非常好，这是由我们许多的客户验证的结果，另外在各接缝处加强焊接，经由多层次的制程及清洁程序后装置的两侧文件片亦不会因氢氟酸的强力清洗而脱落。

N2 Shield